Mensagem da Gate News, 27 de abril — O Tribunal de Propriedade Intelectual e Comercial de Taiwan proferiu uma decisão em primeira instância no caso de segredo comercial do processo TSMC de 2nm. Chen Li-ming, um antigo empregado tanto da TSMC como da subsidiária taiwanesa da Tokyo Electron, foi condenado a 10 anos de prisão, enquanto a subsidiária taiwanesa da Tokyo Electron foi multada em NT$150 milhões.
O tribunal considerou que Chen se juntou à subsidiária taiwanesa da Tokyo Electron numa função de marketing depois de deixar a TSMC e solicitou materiais avançados do processo junto de engenheiros da TSMC que ainda estavam lá empregados. A informação roubada foi utilizada para ajudar a Tokyo Electron a garantir mais encomendas de equipamento junto da TSMC. Os dados comprometidos incluíam segredos comerciais relacionados com equipamento de corrosão (etching) utilizado na produção de 2nm, com alguns materiais obtidos através de fotografia e duplicação.
Outros três empregados da TSMC envolvidos — Wu Bing-jun, Ge Yi-ping e Chen Wei-jie — receberam penas de 3 anos, 2 anos e 6 anos, respetivamente. O empregado da subsidiária taiwanesa da Tokyo Electron, Lu Yi-yin, foi condenado a 10 meses com uma suspensão de 3 anos. A multa de NT$150 milhões imposta à Tokyo Electron pode ser suspensa se a empresa compensar a TSMC em NT$100 milhões e pagar NT$50 milhões ao tesouro público.