A ASML aumenta a produção de EUV em 36% à medida que cresce a procura dos centros de dados de IA

O fabricante neerlandês de equipamentos para chips ASML planeia aumentar a produção de máquinas de litografia extrema ultravioleta (EUV) em cerca de 36% em 2026, impulsionado pela procura crescente decorrente da expansão dos centros de dados de IA, de acordo com a orientação mais recente da empresa.

A ASML pretende fabricar pelo menos 60 sistemas EUV standard em 2026 e 80 em 2027, face à sua taxa histórica de produção de 40 a 50 sistemas por ano. A empresa aumentou a sua previsão de vendas para 2026 para 40 mil milhões de euros (US$46.9 mil milhões), de 36 mil milhões de euros (US$42.2 mil milhões), a 15 de abril. A ASML também planeia investir 2,2 mil milhões de dólares (US$2.2 mil milhões$410 em instalações e infraestruturas em 2026, o que representa um aumento de 20% face ao ano anterior, à medida que a empresa procura evitar tornar-se um gargalo para os clientes no contexto de escassez de equipamento, segundo Christophe Fouquet, CEO da ASML.

Sistemas EUV High-NA Impulsionam o Crescimento das Receitas

A expansão das receitas da ASML estende-se para além de volumes de expedição mais elevados de máquinas EUV standard. A empresa está a comercializar sistemas EUV High-NA, uma forma avançada de tecnologia EUV que produz chips mais pequenos e mais potentes para aplicações de IA. Cada ferramenta High-NA custa mais de 350 milhões de euros )US(milhões).

Esta linha de produtos de maior margem está a ganhar uma adoção comercial mais alargada. A Intel concluiu os testes de aceitação para os seus primeiros sistemas High-NA para produção em massa, enquanto a Samsung começou a receber sistemas High-NA para as suas próximas operações de fabrico de chips de 2 nanómetros. Para além dos fabricantes de chips lógicos, os fabricantes de memória SK Hynix e Micron estão a expandir a capacidade de EUV para Memória de Banda Larga Elevada HBM, um tipo de memória utilizado em servidores de IA.

A Capacidade de Produção da ASML Define o Ritmo da Infraestrutura Global de IA

Embora a ASML afirme que pretende evitar tornar-se um gargalo, a produção de EUV da empresa continua a ser um fator limitante para a rapidez com que a capacidade global de computação de IA pode expandir. Esta posição confere à ASML uma influência significativa sobre os prazos de infraestrutura. Reservas líquidas recorde reflectem os planos de expansão dos centros de dados de IA nas principais empresas tecnológicas — Microsoft, Meta, Alphabet e Amazon — através de encomendas feitas a fabricantes de chips. A carteira de encomendas e o backlog da ASML proporcionam uma visão sobre as tendências de investimento em infraestruturas de IA que podem estender-se por vários anos.

Os efeitos das limitações de produção da ASML estendem-se a montante, afetando projetos de centros de dados, acordos de aquisição de energia e planeamento da produção de energia, tudo o que depende de chips de ponta que requerem ferramentas EUV.

Exposição à China Espera-se que Diminua

A ASML espera uma exposição reduzida à China em 2026. A empresa estima que a China represente aproximadamente 20% das suas vendas em 2026, abaixo dos 33% em 2025, independentemente de quaisquer restrições adicionais dos EUA.